目前真空鍍膜應用的行業領域廣泛，塑料薄膜也經常使用到真空鍍膜。塑料的真空鍍層厚度均勻性可以使用在線測試儀來連續監測。以珠光膜為為代表性，光學透光率可以測量真空鍍薄膜厚度的均勻性，確保真空鍍薄膜的在線生產品質。

塑料的真空鍍層與光固化有機涂層的復合，一般采用真空鍍鋁與光固化有機涂層的復合，但在防護等性能上受到很大的限制。真空鍍鉻是今后的發展方向之一。真空鍍鉻層具有比鋁鍍層更美麗的銀白金屬光澤，在大氣中有很強的鈍化性能，在堿、硝酸、硫化物、碳酸鹽、有機酸等腐蝕介質中穩定，還有較高的硬度，良好的耐磨性和耐熱性。

但是，鉻的熔點為1900℃，在1397℃時鉻的蒸氣壓為1.33Pa，鉻的蒸發溫度高，用真空蒸發鍍鉻較為困難。如果采用磁控濺射法，由于鉻質脆，難以做成圓柱靶，那么在一般的磁控濺射條件下，平面磁控濺射因受靶框材料污染等原因，鍍鉻層的色澤顯著偏離銀白色。

再次，所選擇的底涂層必須有足夠的耐熱性和耐輻射性，與基材及真空鍍膜層有良好的結合力，不能相互發生化學反應，并有良好的流平性，在真空條件下只有很少的揮發成分，不吸收水分，固化后表面高度光滑等。在眾多的涂料中，聚丁二烯涂料基本能滿足上述條件，但是這種涂料屬于熱固化涂料，并且固化溫度高，固化時間長，不能用于塑料的真空鍍膜。

真空鍍膜后通常要涂覆面涂層，使鍍膜層得到保護。對面涂層的基本要求是：與真空鍍膜層（一般是金屬鍍層）的附著力良好，固化后涂層無較大內應力，與底涂層有一定的相容性，有足夠的硬度、耐劃傷性、耐磨性，較高的耐水性、耐蝕性、耐候性、耐化學品性等性能，有適宜的黏度和良好的流平性。

對于需要突出鍍膜層色澤時，面涂層還應具有高的可見光透過率和表面光澤度。對于真空鍍鉻層用光固化面涂層，至今尚未找到理想的品種，主要問題是：與鍍鉻層的附著力不良，硬度、耐磨性、耐候性等不能滿足產品的高要求。目前研究方向是改進配方，采用納米粒子改性以及選用合適的無機鍍層。

除了塑料真空鍍膜，金屬真空鍍膜應用更加常見，其中以鍍鋁膜為主要，鍍膜產品可以使用到光密度法來測量產品的鍍膜品質，如今市場上已經有了專業的光密度儀。

如果鍍膜產品的鍍膜層要求在生產時得到穩定控制，就需要使用到在線測試儀。通過可見光透過率來檢測鍍膜產品光學性能的穩定性，及監控鍍膜生產過程中鍍層厚度的均勻性，這是一項要求較高的技術要求，能提高真空鍍膜設備在線生產效率。