有機(jī)塑料薄膜真空鍍膜一般采用熱蒸發(fā)和濺射鍍膜，目前市場(chǎng)上用熱蒸發(fā)的方式更多一些，主要問(wèn)題就是塑料不耐溫，熱蒸發(fā)和濺射的方式產(chǎn)生的溫升小，一般鍍純金屬比較多，比如Cr，Al等。

而真空鍍膜檢測(cè)設(shè)備，主要用于真空鍍膜生產(chǎn)線上，產(chǎn)品光學(xué)性能的實(shí)時(shí)檢測(cè)。鍍膜產(chǎn)品在生產(chǎn)的過(guò)程中，需要監(jiān)控產(chǎn)品的透光率是否達(dá)標(biāo)。林上現(xiàn)已研發(fā)一款針對(duì)真空鍍膜檢測(cè)設(shè)備。用于生產(chǎn)過(guò)程中，品質(zhì)的監(jiān)控。

真空鍍膜檢測(cè)設(shè)備包括以下三部分：

1．探測(cè)系統(tǒng)，主要包括光源，接收器和支架（測(cè)試點(diǎn)的多少，由用戶定制）。

2．現(xiàn)場(chǎng)顯示系統(tǒng)，顯示實(shí)時(shí)的各個(gè)測(cè)試點(diǎn)的光密度參數(shù)。

3．電腦實(shí)時(shí)監(jiān)控采集系統(tǒng)（通過(guò)通訊線和設(shè)備連接），實(shí)現(xiàn)在辦公室內(nèi)監(jiān)控真空鍍膜室內(nèi)產(chǎn)品品質(zhì)狀況。

真空鍍膜檢測(cè)設(shè)備可同時(shí)測(cè)量多個(gè)測(cè)試點(diǎn)，點(diǎn)數(shù)的多少根據(jù)客戶需求定制?？梢赃x擇紅外，紫外和可見(jiàn)光的透過(guò)率測(cè)試。也可用于太陽(yáng)膜生產(chǎn)線、玻璃生產(chǎn)線，涂料，有機(jī)材料生產(chǎn)線上的光學(xué)質(zhì)量檢測(cè)。

塑料表面金屬化將改善塑料的表面性質(zhì)，使其具有塑料和金屬兩者的獨(dú)特功能，真空鍍膜技術(shù)是現(xiàn)代塑料表面金屬化的主要技術(shù)之一。使塑料表面金屬化的方法有很多，如電鍍法、熱噴涂法、真空鍍膜法等都能達(dá)到塑料表面金屬化的目的。這幾種方法中，真空鍍膜法是在高真空狀態(tài)下，采用加熱或離子轟擊的方法，使金屬材料由固態(tài)迅速轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成一薄層金屬膜，被認(rèn)為是塑料表面金屬化最有效的手段之一。

真空蒸發(fā)鍍膜在真空環(huán)境下加熱鍍膜材料，使它在極短時(shí)間內(nèi)蒸發(fā)，蒸發(fā)了的鍍膜材料分子沉積在塑料表面上形成鍍膜層。此法簡(jiǎn)單便利、操作容易、成膜速度快、效率高，是薄膜真空制備中較為廣泛使用的技術(shù)。

但薄膜與基體結(jié)合較差，工藝重復(fù)性不好，只能蒸發(fā)鋁這樣的低熔點(diǎn)金屬。磁控濺射鍍膜是在真空中充入惰性氣體，并在塑料基體和金屬靶之間加上高壓直流電，由輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體，產(chǎn)生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子擊出，沉積在塑料基體上。

由于濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個(gè)數(shù)量級(jí)，高能量的濺射原子沉積在基體時(shí)轉(zhuǎn)換的能量多，甚至可發(fā)生部分注入現(xiàn)象，同時(shí)濺射成膜過(guò)程中，基體始終在等離子區(qū)中被清洗和激活，因此濺射鍍膜與塑料表面的附著力要比蒸發(fā)鍍膜好，膜層致密、均勻，如配合適當(dāng)?shù)墓ぜD(zhuǎn)動(dòng)，可在復(fù)雜表面上獲得較均勻的鍍層。